标准温度和衬底分步清洗对GaN初始生长影响RHEED研究

来源 :红外技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：li1xiang125

【摘要】

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在经过校温的ECR-PEMOCVD装置上,通过分析RHEED(反射高能电子衍射)图像研究了常规清洗和ECR等离子体所产生的活性氢氮等离子体源对蓝宝石衬底进行清洗、氮化实验,结果表明:经

【作者】

：

郎佳红顾彪徐茵秦福文曲钢

【机构】

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大连理工大学,大连理工大学

【出处】

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红外技术

【发表日期】

：

2003年6期

【关键词】

：

蓝宝石清洗氮化 RHEED GaN

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在经过校温的ECR-PEMOCVD装置上,通过分析RHEED(反射高能电子衍射)图像研究了常规清洗和ECR等离子体所产生的活性氢氮等离子体源对蓝宝石衬底进行清洗、氮化实验,结果表明:经常规清洗的蓝宝石衬底的表面晶质差异很大;按照经验清洗30 min是不能清洗充分的,那么根据情况进行多步清洗就显得很重要了;结果表明清洗得很充分的衬底经20 min的氮化出来,而未清洗充分的衬底20 min或更长的时间是不能氮化出来的.

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