基体偏压对高功率脉冲磁控溅射AlCrN涂层结构及其性能的影响

来源 :材料研究与应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户：snow5534

【摘要】

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为了获得性能更加优异的刀具涂层,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在Ar/N 2混合气氛下制备了AlCrN涂层,研究了不同基体偏压对于涂层的结构和力学性能的影响.XRD图谱表明:

【作者】

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唐鹏王启民林松盛代明江

【机构】

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广东省新材料研究所,广东工业大学机电工程学院

【出处】

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材料研究与应用

【发表日期】

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2019年4期

【关键词】

：

AlCrN涂层高功率脉冲磁控溅射基体偏压力学性能 AlCrN coatinghigh power impulse magnetron sputtering

【基金项目】

：

国家重点研发计划项目(2016YFB0300400),广东省科技项目计划(2017A07071027,2014B070705007),广东省科学院科技提升项目(2017GDASCX-0202,2017GDASCX-0111),广东省科学院平台项目(2019GDASYL-0402004)

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为了获得性能更加优异的刀具涂层,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在Ar/N 2混合气氛下制备了AlCrN涂层,研究了不同基体偏压对于涂层的结构和力学性能的影响.XRD图谱表明:AlCrN涂层中存在立方CrN(200),CrN(220)和六方AlN(110)的衍射峰,其中CrN(220)的衍射峰在偏压大于等于-60 V时才会出现,六方AlN(110)的衍射峰在偏压大于等于-100 V时才会出现;Al元素加入会使所有CrN的衍射峰都向更低的角度偏移.随着基体偏压的升高,涂层表面的大颗粒数量和尺寸都呈

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