论文部分内容阅读
基于磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于单晶硅和45钢基体上制备了纯Cr镀层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和CH1660B电化学工作站（极化曲线）分析了纯Cr镀层表面、截面微观形貌和择优生长取向的变化规律，并考察了纯Cr镀层的耐腐蚀性能。结果表明：偏压显著影响着纯Cr镀层的组织结构、择优取向以及耐腐蚀性能。基体偏压值大于90V后纯Cr镀层的组织结构由柱状晶向等轴晶转变纯Cr镀层组织形貌由柱状晶逐渐向等轴晶转变，随着偏压值增大，纯Cr镀层晶体择优生长面由（200）晶面变为（110）晶面，镀层耐腐蚀性能逐渐增