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介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计.研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差,数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为10 nm左右,可以实现纳米级超微细图形的制作.同时给出了实验装置及初步实验结果.
驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究
【摘 要】
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介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计.研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差,数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的
【机 构】
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中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2003年7期
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