【摘 要】
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利用反应溅射法,在Si（100）衬底上沉积了掺N氧化钒薄膜。借用SE850椭偏仪对薄膜进行了近红外波段（1 300~2 300 nm）的光谱测量,运用Tauc-Lorentz模型对薄膜的椭偏光谱数据进行了拟
【机 构】
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电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室
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利用反应溅射法,在Si（100）衬底上沉积了掺N氧化钒薄膜。借用SE850椭偏仪对薄膜进行了近红外波段（1 300~2 300 nm）的光谱测量,运用Tauc-Lorentz模型对薄膜的椭偏光谱数据进行了拟合,并计算了薄膜的光学参数（n,k）和厚度。结果表明：随着掺N量的增加,氧化钒薄膜的光学参数（n,k）随之增加,而其沉积速率则随之降低。这可能源于掺N增加了薄膜的致密度,同时减小了氧化钒的光学带隙。
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