基于改进水热法的Ga_(2)O_(3)纳米棒制备及表征

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:darling1989
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采用改进的水热法对衬底进行预处理,分别在单晶硅Si(111)和蓝宝石C(0001)衬底上生长一层Ga2O3籽晶层。籽晶层退火处理后放入Ga2(NO3)3溶液高压反应釜内进行水热反应,待反应结束进行二次退火,成功制备出了Ga2O3纳米棒。研究了不同温度对籽晶层和Ga2O3纳米棒的影响,通过扫描电子显微镜(SEM)
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