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磁控溅射法是制备薄膜的一种重要方法,薄膜厚度分布是影响薄膜性能的一个重要因素.本文根据平面磁控溅射的实际,提出了一个较为全面的磁控溅射薄膜厚度分布模型,该模型综合考虑靶面溅射电流分布、溅射产额与入射角之间的关系、靶面出射粒子的角分布、空间角以及粒子迁移过程中的碰撞等.对建立的模型进行了计算机模拟,模拟结果与实验结果较为一致.