论文部分内容阅读
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景.
光学光刻技术向纳米制造挺进
【摘 要】
：
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,
【机 构】
：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
：
2004年3期
其他文献
摘 要 目的：探讨男性超重、肥胖学龄儿童血清超敏C-反应蛋白(hsCRP)、胰岛素抵抗指数(HOMA-IR)變化及临床意义。方法：对62例6～14岁男性超重或肥胖儿童(超重、肥胖组)及59例年龄相匹配的非肥胖男性儿童(对照组)分别测体重指数(BMI)、hsCRP、空腹血糖(FPG)、空腹胰岛素(FINS)，计算HOMA-IR，比较两组差异及各指标的相关性。结果：超重、肥胖组hsCRP、FINS、H
介绍了综采放顶煤工作面仰采条件下所遇到的问题及所采取的一系列有效办法和措施，为类似条件下工作面回采提供了实践经验。
doi:10.3969/j.issn.1007-614x.2010.12.154 脑缺氧是造成创伤后脑继发损害的重要原因之一。早期发现和治疗脑缺氧,继持脑供需养的平衡,可以减轻脑外伤后继发性损害,从而改善病人的预后[1]。我科自2007～2009年采用美国进口的多参数床旁监护仪,对125例重型脑外伤病人连续进行脉搏,血氧饱和度监测,发现这种方法即能及时发现病情变化,又能及时发现早期低氧血症,为临