【摘 要】
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研究基于硅基平台的PLC VOA器件,探讨上包层薄膜工艺与PLC VOA的偏振相关损耗(PDL)之间的关系.通过设计工艺实验,分析上包层薄膜的厚度、杂质浓度、薄膜退火温度和退火气氛的
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研究基于硅基平台的PLC VOA器件,探讨上包层薄膜工艺与PLC VOA的偏振相关损耗(PDL)之间的关系.通过设计工艺实验,分析上包层薄膜的厚度、杂质浓度、薄膜退火温度和退火气氛的变化导致的工艺参数变化(薄膜折射率RI、应力值Stress).然后分析工艺参数与产品特性参数(插入损耗IL和偏振相关损耗PDL)之间的相关性.
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