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光刻技术在当前多个领域内发挥重要作用,其中激光干涉光刻技术由于其本身具有较高的优势,所以在光刻技术体系内可以起到更好的效果。基于对激光干涉光刻技术开发模式的分析,本文给出技术的具体应用方案,让该项技术能够在现行的多种高科技领域内发挥其应有作用。
激光干涉光刻技术的开发与应用分析
【摘 要】
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光刻技术在当前多个领域内发挥重要作用,其中激光干涉光刻技术由于其本身具有较高的优势,所以在光刻技术体系内可以起到更好的效果。基于对激光干涉光刻技术开发模式的分析,
【机 构】
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宁波润华全芯微电子设备有限公司
【出 处】
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科学与信息化
【发表日期】
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2020年23期
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