【摘 要】
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采用低压等离子喷涂技术制备了TaSi2/MoSi2涂层。通过XRD、SEM、EDS等手段分析了涂层氧化前后组织结构及相结构。结果表明,TaSi2/MoSi2涂层呈现典型的层状结构,组织结构均匀
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采用低压等离子喷涂技术制备了TaSi2/MoSi2涂层。通过XRD、SEM、EDS等手段分析了涂层氧化前后组织结构及相结构。结果表明,TaSi2/MoSi2涂层呈现典型的层状结构,组织结构均匀致密,孔隙率为3.1%;涂层由TaSi2和MoSi2两相组成,喷涂过程中未发生相结构转变;空气中1650℃氧化30min后,涂层表面生成致密和玻璃态SiO2保护膜,涂层具有良好的自愈合能力,表现出良好的高温抗氧化性能。
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