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采用射频磁控反应溅射法，以高纯Al为靶材，高纯O2为反应气体，在不锈钢和单晶Si基片上成功地制备了氧化铝（Al2O3）薄膜，并对氧化铝薄膜的沉积速率、结构和表面形貌进行了研究。结果表明，沉积速率随着射频功率的增大先几乎呈线性增大而后缓慢增大；随着溅射气压的增加，沉积速率先增大，在一定气压时达到峰值后继续随气压增大而减小，同时随着靶基距的增大而减小；随着氧气流量的不断增加，靶面溅射的物质从金属态过渡到氧化物态，沉积速率也随之不断降低。X射线衍射图谱表明薄膜结构为非晶态；用原子力显微镜对薄膜表面形貌观察，薄膜