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不同方法测量铜薄膜厚度的比较
不同方法测量铜薄膜厚度的比较
来源 :大学物理实验 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xyfan
【摘 要】
:
利用磁致溅射方法在玻璃基片上沉积不同厚度的铜膜。利用台阶仪、反射光谱法、四探针电阻法分别测量铜薄膜的形状膜厚、光学膜厚、电阻膜厚。总结了三种方法的测量精度、测量
【作 者】
:
段青松
刘高斌
韩忠
【机 构】
:
重庆大学,重庆大学物理实验国家级教学示范中心
【出 处】
:
大学物理实验
【发表日期】
:
2018年1期
【关键词】
:
铜薄膜
形状膜厚
光学膜厚
电阻膜厚
copper thin films
shape film thickness
optical film thickness
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利用磁致溅射方法在玻璃基片上沉积不同厚度的铜膜。利用台阶仪、反射光谱法、四探针电阻法分别测量铜薄膜的形状膜厚、光学膜厚、电阻膜厚。总结了三种方法的测量精度、测量范围和局限性。
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