同轴磁控溅射离子镀膜在装铈膜和超硬膜中的应用

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同轴式磁控溅射离子镀膜机是磁控溅射和离子镀膜相结合的一种镀膜设备。从不小于1.5×2m 大面积基底上所镀膜层的均匀性和实际应用的可行性来看,是一种较好的成膜手段。1.国内现状目前国内生产蒸发式镀膜设备的厂家不少。这种方法是以高纯铝丝或铁铬镍合金丝等作为膜材,在大面积上镀镜或镀建材玻璃膜。普遍认为蒸发膜存在着如下问题: Coaxial magnetron sputtering ion plating machine is a combination of magnetron sputtering and ion plating coating equipment. From not less than 1.5 × 2m large area of ​​the substrate coating on the uniformity and practical feasibility of the point of view, is a better means of film. 1. Domestic Status At present, many domestic manufacturers of evaporative coating equipment. This method is based on high-purity aluminum wire or iron-chromium-nickel alloy wire as a film, in a large area coated with glass or plated glass plate. It is generally considered that the evaporation film has the following problems:
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