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为研究磁过滤阴极弧制备的四面体非晶碳（tetrahedral amorphous carbon，ta-C）膜在自然环境中使用的热稳定性，将ta—C膜在空气中退火3h，退火温度分别为200、400和500℃．用XPS和Raman谱对膜的微观结构进行表征．结果表明，在400及400℃以下退火，XPS谱Cls峰和Raman谱都没有明显变化．当退火温度为500℃时，Cls峰峰形仍然没有变化；Raman峰ID／IG增大，G峰峰位未变，峰的对称性变好．分析显示膜中石墨颗粒长大，但没有发生石墨化．说明磁过滤阴极弧制备的