【摘 要】
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报道了两个典型掺杂的镍氧化物Nd2-xSrxNiO4(x=0.33,1.35)的低温热导率、电阻率和低场交流磁化率,测试温区为77-300K.在Nd2-xSrxNiO4(x=0.33)样品的热导率-温度曲线上在电荷
【机 构】
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中国科学技术大学结构分析开放实验室
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报道了两个典型掺杂的镍氧化物Nd2-xSrxNiO4(x=0.33,1.35)的低温热导率、电阻率和低场交流磁化率,测试温区为77-300K.在Nd2-xSrxNiO4(x=0.33)样品的热导率-温度曲线上在电荷有序转变温度(Tco)和自旋有序转变温度(Tso)附近分别观测到反常,电荷有序使热导率在Tco以下有所增加,反铁磁自旋有序使热导率在Tso附近被压制.在低场交流磁化率-温度曲线上也分别观测到对电荷有序和自旋有序的响应,而在其电阻率-温度曲线上仅观测到电荷有序.作为比较,Nd0.65Sr135NiO4样品中没有观测到输运性质和磁性质上的反常.两个样品中声子热导占主导地位.Nd167Sr0.33NiO4样品中电荷有序和自旋有序导致的热导率的反常表明样品中存在强的电荷-声子和自旋-声子相互作用.
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