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来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
采用螺旋波等离子体化学气相沉积(HWPCVD)技术,以SiH4作为源反应气体在Si(100)和玻璃衬底上制备了纳米Si薄膜.通过X射线衍射(XRD)、Raman光谱、原子力显微镜(AFM)对所制备的
【作 者】
:
于威
朱海丰
王保柱
韩理
傅广生
【机 构】
:
河北大学
【出 处】
:
功能材料与器件学报
【发表日期】
:
2004年2期
【关键词】
:
螺旋波等离子体化学气相沉积
纳米硅薄膜
结构特性
HWPCVD nanocrystalline Si films structural properties
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