提高溅射沉积MoS2膜耐磨性的途径及分析

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【摘要】

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分析了影响气相沉积ＭｏＳ２膜摩擦学性能的因素，讨论了通过复合膜技术和膜的后处理技术改善ＭｏＳ２膜性能的途径。 The factors that affect the tribological properties of vapor deposit

【作者】

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张晓玲胡奈赛何家文

【机构】

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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室!西安７１００４９,西安交通大学金属材料强度国家重点实验室!西安７１００４９,西安交通大学金属材料强度国家重点实验室!西安７１００４９

【出处】

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材料工程

【发表日期】

：

1999年10期

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分析了影响气相沉积ＭｏＳ２膜摩擦学性能的因素，讨论了通过复合膜技术和膜的后处理技术改善ＭｏＳ２膜性能的途径。 The factors that affect the tribological properties of vapor deposited MoS2 films were analyzed. The ways to improve the properties of MoS2 films by composite film technology and membrane post treatment were discussed.

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