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设备制造技术所涉及的器件规模越来越小,有的不过就22nm,可复杂程度却越来越高,因此,缺陷对于器件性能的不利影响也越来越大,而缺陷检测也越来越难。美国国家标准技术研究院(NIST)下属的物理测量实验室(PML)已经找到一种能够快速且无损地生成3D图像的技术,从而实现了纳米级缺陷的快速检测。这项技术主要依靠散射场光学显微镜测量仪,这是一项NIST在5年前就发明的技术。散射场显微镜使用的照明手段是针对特殊