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低温p—Si薄膜的制备研究
低温p—Si薄膜的制备研究
来源 :世界电子元器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jianfei
【摘 要】
:
引言近年来,有源液晶显示技术在液晶显示产业和研究领域都独占鳌头.在有源液晶显示技术中,多晶硅薄膜因高迁移率展现出独特的优势,它的器件尺寸小,可以获得更高的开口率和分
【作 者】
:
荆海
邱法斌
刘传珍
付国柱
【机 构】
:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所北方液晶工程研究开发中心
【出 处】
:
世界电子元器件
【发表日期】
:
2001年11期
【关键词】
:
低温p-Si薄膜
多晶硅薄膜
金属诱导法
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引言近年来,有源液晶显示技术在液晶显示产业和研究领域都独占鳌头.在有源液晶显示技术中,多晶硅薄膜因高迁移率展现出独特的优势,它的器件尺寸小,可以获得更高的开口率和分辨率;由于迁移率的提高可以将周边驱动集成于显示板内部,可以有效降低材料成本,同时LCD整体的重量和厚度将会大幅度的减少.
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