【摘 要】
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采用反应磁控溅射法在ITO玻璃上制备氮掺杂氧化钨(WO3:N)薄膜.采用XRD、XPS、AFM对薄膜的结构、成分、结合键和表面形貌进行表征.将WO3:N薄膜封装制成电致变色器件,并采用直
【机 构】
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合肥工业大学材料科学与工程学院,合肥,230009
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采用反应磁控溅射法在ITO玻璃上制备氮掺杂氧化钨(WO3:N)薄膜.采用XRD、XPS、AFM对薄膜的结构、成分、结合键和表面形貌进行表征.将WO3:N薄膜封装制成电致变色器件,并采用直流稳压电源和分光光度计对其进行变色调制性能测试.结果表明:制备的WO3:N薄膜为纳米晶结构,其衍射峰位随着含N量的增加而右移;WO3:N薄膜中W、O分别以W6+和O2-存在,而N以中性价态、WO3中的O位替换以及表面吸附3种状态存在;随着WO3:N薄膜中含N量的升高,表面粗糙度逐渐增大,且有利于器件着色;当掺氮2.80％(摩尔分数)时,电致变色器件调制幅度最大为68.8％,比未掺氮器件的高出7.7％,适用于节能玻璃.
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