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用ＴｉＣｌ４作为反应气体制备ＰＣＶＤ ＴｉＮ镀层，对降低界面的氯含量，改善ＰＣＶＤＴｉＮ镀层的界面性能进行了研究。在镀层制备过程中增加了界面制备过程，即采用氩离子轰击以及氢的反应使界面的氯含量降低，膜基界面得到改善。结果表明，与常规ＰＣＶＤ制备的ＴｉＮ镀层相比，膜层的结合强度有大幅度的提高，耐磨性和耐蚀性均有改善，特别是其耐蚀性达到甚至超过奥氏体不锈钢的水平。