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采用共溅射法在ITo/玻璃基片上沉积CdTe掺Nd薄膜,并利用XRD和阻抗测试研究薄膜的结构和电导性能.结果表明,适当Nd掺入可以改善CdTe薄膜结晶特征和电导性能.
共溅射CdTe掺Nd薄膜的结构和电导性能
【摘 要】
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采用共溅射法在ITo/玻璃基片上沉积CdTe掺Nd薄膜,并利用XRD和阻抗测试研究薄膜的结构和电导性能.结果表明,适当Nd掺入可以改善CdTe薄膜结晶特征和电导性能.
【机 构】
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新疆大学物理系,中国科学院新疆物理所
【出 处】
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新疆大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2002年1期
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