Si基复合衬底碲镉汞液相外延技术的研究

来源 :第二届全国先进焦平面技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gin901122
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本文阐述了采用Si基复合衬底,利用液相外延方法成功进行中波碲镉汞薄膜生长的情况,并且采用X光双晶衍射、X光形貌、红外付立叶光谱仪等手段对碲镉汞薄膜进行了表征。Si基复合衬底碲镉汞外延膜晶体结构为单晶,并且它的双晶衍射半峰值接近国外同类产品的先进水平。
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