【摘 要】
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本文介绍一种快速测量硅片表面不平度的方法,可在集成电路的生产过程中直接应用。文中提出了测量方法的原理,实验验证以及测量结果。通过选择不同的光栅常数或衍射级来改变测
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本文介绍一种快速测量硅片表面不平度的方法,可在集成电路的生产过程中直接应用。文中提出了测量方法的原理,实验验证以及测量结果。通过选择不同的光栅常数或衍射级来改变测量的灵敏度,此法即可测抛光表面也可测粗糙表面。
This article describes a method for quickly measuring the surface roughness of a silicon wafer that can be used directly in the production of integrated circuits. The paper presents the principle of the measurement method, experimental verification and measurement results. By choosing a different grating constant or diffraction order to change the sensitivity of the measurement, this method can be measured polished surface can also be measured rough surface.
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