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采用脉冲激光沉积（PLD）技术，在（110）和（100）织构金刚石膜上成功制备出高度c-轴取向的ZnO薄膜，然后在纯氮气氛条件下对ZnO薄膜进行退火处理。作为比较，也在（100）Si上生长的ZnO薄膜进行了相同的处理。通过测量X射线衍射（XRD）谱和光致发光（PL）谱，研究了不同衬底性质和退火对薄膜结构和发光特性的影响。实验结果表明，在（100）织构金刚石上的ZnO膜具有最好的结晶质量，其半高宽只有0．2°。退火之后近紫外发光峰明显减弱的同时，绿色发光峰得到增强。这里归结为氮气退火后氧空位的增加