具有增大焦深作用的全芯片光学邻近效应校正技术

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叙述了一种根据空间像匹配原理,进行光学邻近效应校正(OPC)的实用方法。此方法采用了三种超高分辨率图形技术,散射条,抗散射条和修饰图形。通过利用顶角“图形工具”,实现了超大规模微处理机随机逻辑芯片的全芯片光学邻近效应校正处理。此方法不仅对于控制疏密线条图形的CD尺寸有效,而且当与四极离轴照明方法结合使用时,对于提高所有图形的焦深也有明显的效果。在用i线技术制作一块1250万个晶体管芯片时,利用此O
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