【摘 要】
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针对极紫外（EUV)光刻机工作过程中，多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究，讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法。首先描述了在EUV曝光过程中多层膜表面的
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
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针对极紫外（EUV)光刻机工作过程中，多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究，讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法。首先描述了在EUV曝光过程中多层膜表面的碳污染形成过程，简单阐述了碳污染对多层膜反射镜的危害。然后从清洗机理、速率以及效果等方面详细描述了多种EUV多层膜表面碳污染清洗方法，分析对比了各清洗技术在清洗速率和效果等方面的优缺点。分析表明：离子体氧和活化氧清洗速率相差不多，可达到2nm/min，但清洗过程中容易造成表面氧化；等离子体氢和原子氢的清洗速率相对较慢，一般在0.37nm
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