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本文用碱性氟化物溶液对单晶硅（100）表面进行了处理。结果发现其表面完全布满了类似金字塔的小凸起。在整个腐蚀过程中，小凸起随时问的延长变大，但数量却不断减少，这说明部分小凸起的成长是通过其周边小凸起的消亡实现的。在碱性氟化物溶液中，≡Si—H结构是稳定的，腐蚀主要发生在=SiH2或一SiH3的原子阶梯或缺陷存在的粗糙表面处。根据腐蚀速率和表面形貌的变化，我们对整个腐蚀过程作了进一步的阐释。