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基于Mie散射理论，对不同基质中的碳化硅材料散射强度进行数值计算与理论分析，得到了中红外波段反常色散区和正常色散区中散射强度的分布特征，揭示了入射波长、基质折射率与散射强度分布的内在规律。研究结果为该材料在中红外区的开发和应用提供了理论依据。
中红外区基质折射率对碳化硅颗粒散射强度的影响
【摘 要】
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基于Mie散射理论，对不同基质中的碳化硅材料散射强度进行数值计算与理论分析，得到了中红外波段反常色散区和正常色散区中散射强度的分布特征，揭示了入射波长、基质折射率与散射
【机 构】
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枣庄学院光电工程学院
【出 处】
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激光与红外
【发表日期】
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2011年12期
【基金项目】
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山东省优秀中青年科学家科研奖励基金项目（No.2008BS01021）,枣庄市科技攻关计划项目（No.201031-2）,2008年枣庄学院科技计划项目资助.
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