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Pb1—xGexTe材料及光学薄膜器件温度稳定性的研究
Pb1—xGexTe材料及光学薄膜器件温度稳定性的研究
来源 :红外 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yydx_2009
【摘 要】
:
1薄膜光学和光学薄膜技术以及光学薄膜器件温度稳定性的研究自二十世纪三十年代年代中期出现反射镜、减反射膜和利用光的干涉效应的滤光片以来,薄膜光学和光学薄膜技术走过了
【作 者】
:
李斌
张凤山
张素英
【机 构】
:
中国科学院上海技术物理研究所
【出 处】
:
红外
【发表日期】
:
2001年4期
【关键词】
:
碲锗铅材料
光学薄膜器件
温度稳定性
薄膜光学
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1薄膜光学和光学薄膜技术以及光学薄膜器件温度稳定性的研究自二十世纪三十年代年代中期出现反射镜、减反射膜和利用光的干涉效应的滤光片以来,薄膜光学和光学薄膜技术走过了半个多世纪,已经发展成为一门成熟的工程技术学科.
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