论文部分内容阅读
近日，Mentor Graphics与英特尔公司宣布，Mentor的电路模拟和验收工具已经完全启用英特尔面向Intel CustomFoundry客户的14nm三栅极工艺技术。Mentor ○R和IntelCustom Foundry将为电路模拟、设计规则检查（DRC）与布局对面向移动和云基础架构应用的电路结构检查（LVS）提供模型和设计规则。Mentor Graphics Calibre设计解决方案高级营销总监Michael Buehler-Garcia表示：“我们的目标是为无晶圆半导体公司提供完全优化他们设计的能力，从而利用英特尔的14nm工艺提供的所有功能。”