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论述了锗晶片的表面氧化机理及锗晶片表面清洗的不同方法,其中,锗晶片的清洗主要包括干法清洗和湿法清洗两种,不同清洗方法对锗表面的影响采用了XPS,AFM进行了表征。并对未来锗清洗技术的发展进行了展望。
锗晶片表面清洗研究进展
【摘 要】
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论述了锗晶片的表面氧化机理及锗晶片表面清洗的不同方法,其中,锗晶片的清洗主要包括干法清洗和湿法清洗两种,不同清洗方法对锗表面的影响采用了XPS,AFM进行了表征。并对未来
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2018年2期
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