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应用了宏观统计学的理论，以矩形平面磁控溅射靶为例，分析了在不同的磁场、电场和真空度的条件下，保持磁控溅射靶的工作状态，以及实现高质量磁控溅射薄膜的优化条件。通过分析表明，磁控溅射的磁场、电场与真空度存在着密切的关系，在磁控溅射中为了获得原子理想的沉积状态，必须对磁场、电场与真空度的参数进行合理的设定。三者参数的设定必须遵循其内在的关系和规律。