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通过大气等离子喷涂制备了MoSi2结构材料，研究了热等静压对MoSi2构件微观结构及性能的影响。结果表明：喷涂成形件主要由MoSi2、Mo5Si3、Mo5Si和Mo组成，呈典型的层状结构特征，内部孔隙和裂纹较多。粉末部分氧化造成硅元素挥发，导致材料出现贫硅现象，使成形件内部存在富钼相。热等静压处理后，MoSi2构件内部孔隙、缝隙减小，致密化效果明显。经1600℃处理后，MoSi2构件的密度达到6．29g／cm^2，较处理前提高了5．0％；同时其显微硬度也有一定升高。