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针对微晶玻璃材料系统研究了加工时间、作用距离以及入射角度对去除函数的影响。实验及分析结果表明：加工时间及作用距离与去除效率呈线性关系；随着入射角的增大，理论与实际去除率偏差也随之增大，在入射角为0o～60o时，去除率偏差值变化范围为1.43%至3.38%，总体上仍小于5%的误差指标，满足非球面离子束超精密抛光的需求。