【摘 要】
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日本电气公司开发和设计贴近的蚀刻图形,掩模修正技术可用于制造下一代256Mbit DRAM上.该法与以往使用的修正方法有所不同,这次研制成自动掩模修正程序能够适用于任意的掩模
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日本电气公司开发和设计贴近的蚀刻图形,掩模修正技术可用于制造下一代256Mbit DRAM上.该法与以往使用的修正方法有所不同,这次研制成自动掩模修正程序能够适用于任意的掩模图形上.使用该程序,实际上可曝光的尺寸达
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