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介绍了金刚石膜的应用和低压下化学汽相沉积金刚石膜的主要方法及其最新进展，并对各种方法的优缺点作了简要评述。
CVD金刚石膜制备方法及其应用
【摘 要】
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介绍了金刚石膜的应用和低压下化学汽相沉积金刚石膜的主要方法及其最新进展，并对各种方法的优缺点作了简要评述。
【机 构】
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中国科学技术大学工程科学学院
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2001年6期
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