脉冲准分子激光沉积纳米WO3多晶电致变色薄膜的研究

来源 :硅酸盐学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：linuxlovermm5

【摘要】

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采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在不同条件下,在透明导电衬底SnO2:In2O)3(IIO)及Si(111)单晶衬底上沉积了非晶WOx薄膜采用X射线衍射(ⅪD)、Rmman光谱(RS)、Fourier红

【作者】

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方国家刘祖黎周远明姚凯伦

【机构】

：

华中科技大学物理系,襄樊学院信息功能材料研究室

【出处】

：

硅酸盐学报

【发表日期】

：

2001年6期

【关键词】

：

三氧化钨薄膜脉冲准分子激光沉积工艺条件结构分析纳米晶体电致变色薄膜 tungsten oxide thin films nano_crystalli

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采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在不同条件下,在透明导电衬底SnO2:In2O)3(IIO)及Si(111)单晶衬底上沉积了非晶WOx薄膜采用X射线衍射(ⅪD)、Rmman光谱(RS)、Fourier红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对在不同条件下沉积及不同温度退火处理的样品进行了结构分析.结果表明:氧气氛和衬底温度是决定薄膜结构和成分的主要参数采用三斜相的WO3靶材,在100℃及20 Pa氧压下沉积,经300℃以上退火处理,在Si(111)及IIO衬底上得到了二斜相的纳米晶WO3

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