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采用化学镀方法施镀可获得致密吸附性好的单颗粒钯膜。通过对比不同试验条件，对化学镀钯膜的过程中所涉及到的工艺条件，包括施镀温度、施镀时间、pH值进行优化，结合SEM、XRD、EDS等分析手段对实验所得钯膜进行表征。实验表明，在温度为70℃，施镀时间2h，NH4OH的浓度4．5mol／L，pH值9．8的施镀条件下，得到膜厚约为0．6μm非晶态合金镀层，具有良好的导电性、抗腐蚀性和硬度，结构致密不易破损脱落，并且其成分较纯，不含其它杂质。