【摘 要】
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研究了直流反应磁控溅射工艺中衬底温度对氧化钒（V2O5）薄膜性能的影响,利用X射线光电子能谱（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）和紫外可见光分光光度计（UV1700）分别对薄膜进行
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研究了直流反应磁控溅射工艺中衬底温度对氧化钒（V2O5）薄膜性能的影响,利用X射线光电子能谱（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）和紫外可见光分光光度计（UV1700）分别对薄膜进行了表征。实验结果表明,除了组分和晶态,薄膜的形貌和光学性能受衬底温度的影响很大。随着衬底温度的升高,膜表面变得粗糙,膜厚减小。光学特性测试表明,当衬底温度从160℃升高到320℃,光学带隙从2.39 eV下降到2.18 eV。
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