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提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用于准分子激光光刻实验,得到显著提高光刻分辨力的实验结果.
用光致抗蚀剂膜层制作衰减相移掩模
【摘 要】
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提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用于准分子激光光刻实验,得到显著提高光刻分
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2001年2期
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