pH值和热处理对氧化亚铜薄膜结构和光学性能的影响

来源 :浙江理工大学学报（自然科学版） | 被引量 : 0次 | 上传用户：liuliea

【摘要】

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在三电极电化学池中,以ITO透明导电玻璃作为工作电极,在硫酸铜-乳酸钠体系中采用恒电位电化学沉积法制备Cu2O薄膜,并讨论pH值和热处理对Cu2O薄膜结构和光学性能的影响.利用X

【作者】

：

杨静静张雪张展纯李秋旭汪琼王龙成

【机构】

：

浙江理工大学材料工程中心

【出处】

：

浙江理工大学学报（自然科学版）

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

电化学沉积法法 Cu2O薄膜 pH值热处理禁带宽度 electrochemical deposition method Cu2O thin film pH

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在三电极电化学池中,以ITO透明导电玻璃作为工作电极,在硫酸铜-乳酸钠体系中采用恒电位电化学沉积法制备Cu2O薄膜,并讨论pH值和热处理对Cu2O薄膜结构和光学性能的影响.利用X射线衍射仪(XRD),场发射扫描电镜(FESEM)和紫外-可见光光谱仪(UV-vis)表征Cu2O薄膜物相结构、表面形貌以及光学性能.结果表明:沉积溶液的pH值和热处理均可提高Cu2O薄膜结晶性能,随着pH值的增加Cu2O薄膜的禁带宽度降低,热处理对Cu2O薄膜的禁带宽度影响不大.

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