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为了改善微反射镜存在的驱动电压高、驱动力小的缺点，基于双金属效应，制得可调焦微光学自适应阵列。以硅为基底，先后经过热氧化、光刻显影、HF酸刻蚀、KOH湿法刻蚀，溅射铝膜等微加工工艺，制得的4×4阵列，基底厚50μm，硅表面铝膜厚100nm。利用激光数字波面干涉仪对可调焦微反射镜的动态性能进行了测试。实验表明，在0～11V电压范围内，可产生最大7．91μm的连续变形。