东芝公司试制出双极形MOS FET

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东芝公司首次试制了一种新颖结构的双极MOS FET,这种新结构的晶体管兼 备有MOS FET的高速响应及双极晶体管的大电流控制特性,器件可用于自动控制等要求大电流控制的地方。 本FET就是利用电压控制的MOSFET原理的电导率调变现象,考虑了漏极区域的低阻抗特性的器件。试制器件有耐压为500V和1,000V两个品种,通导 For the first time, Toshiba has prototyped a bipolar MOS FET with a novel structure. This new structure combines the high-speed response of a MOS FET with the high-current control characteristics of a bipolar transistor. The device can be used in applications requiring high current control such as automatic control . The FET is the use of voltage-controlled MOSFET principle of the conductivity modulation phenomenon, taking into account the drain region of the low-impedance characteristics of the device. Prototype devices have voltage 500V and 1,000V two varieties, through
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