超疏水CF4等离子体改性PVDF膜及其DCMD性能

来源 :南京工业大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:QQainigirl
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采用低温CF4等离子体技术,通过化学气相沉积,将一般疏水聚偏氟乙烯(PVDF)膜表面成功改性为接触角为169.5°±4.9°的超疏水表面,研究改性后的超疏水膜的直接接触式膜蒸馏(DCMD)过程。结果表明:当进料液为4%的NaCl溶液时,高温侧温度70.5℃,改性膜通量为26.5kg/(m2·h),截留率高达99.9766%。
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