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研究了制备工艺对微波等离子体ＣＶＤ金刚石成膜质量的影响。详细讨论了基片在等离子体中的位置，基片台结构，Ｈ２等离子体预处理及启动条件对金刚石成膜均匀性的影响。提出了能获得均匀金刚石膜的制备工艺程序。
制备工艺对金刚石形核质量的影响
【摘 要】
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研究了制备工艺对微波等离子体ＣＶＤ金刚石成膜质量的影响。详细讨论了基片在等离子体中的位置，基片台结构，Ｈ２等离子体预处理及启动条件对金刚石成膜均匀性的影响。提出了能获得均匀金
【机 构】
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清华大学,清华大学机械系焊接教研室
【出 处】
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航空材料学报
【发表日期】
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1995年1期
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