GaP:N LPE半导体材料位错密度和位错坑形态分析

来源 :北京师范大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:emily9999
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利用扫描电子显微镜研究GaP:N LPE材料中位错密度和发光的关系及位错坑形态,结果发现:样品经外延后,外延层的位错密度比衬底的位错密度有不同程度的下降,因样品各异,下降幅度为37% ̄83%;外延层的位错密度越低,样品的发光越好。位错坑的形态有正六棱锥形,不等边六棱锥形和正三棱锥形3种形状,随着腐蚀过程进行,正六棱锥形坑渐渐演变为正三棱锥形坑。
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