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镍钒溅射靶材是在制备镍钒和金的过程中,在镍熔体中加入钒,使制备出的合金更有利于磁控溅射,结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点。随着社会的进步和半导体产业的发展,电子及信息、集成电路、显示器等产业对靶材的需求量越来越大,镍钒溅射靶材需求量也会增多。本文重点介绍了镍钒溅射靶材的应用,对化学成分、纯度、杂质、气孔、晶粒度等的要求,制备工艺等。