采用RIE沉积法研制微纳工艺中的防粘连层

来源 :传感技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wll20071002313

【摘要】

：

摩擦和粘附问题已经成为影响微机电系统（MEMS）工艺性能和可靠性的主要因素．针对MEMS／NEMS中微构件表面改性问题，采用反应离子刻蚀（RIE）在硅片表面沉积氟化物薄膜，以达到降低硅片的表

【作者】

：

顾盼刘景全陈迪孙洪文

【机构】

：

上海交通大学微纳科学技术研究院

【出处】

：

传感技术学报

【发表日期】

：

2006年05A期

【关键词】

：

反应离子刻蚀表面能微机电系统防粘连膜 RIE surface energy MEMS anti-adhesive film

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摩擦和粘附问题已经成为影响微机电系统（MEMS）工艺性能和可靠性的主要因素．针对MEMS／NEMS中微构件表面改性问题，采用反应离子刻蚀（RIE）在硅片表面沉积氟化物薄膜，以达到降低硅片的表面能，减少其摩擦和粘附的目的．实验还将RIE沉积法制得的薄膜与自组装（SAMs）薄膜在浸润角、表面能、表面粗糙度等方面进行了对比．

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